Das texanische Unternehmen könne mit dem so genannten Immersionsverfahren künftig rund 30 Prozent kleinere Speicherchips herstellen als Intel, schreibt die Zeitung (Montag). Das neue Verfahren wollten TI und andere Hersteller bereits bei der nächsten anstehenden Fertigungsumstellung einsetzen. «Wir sind wirklich überzeugt, dass wir es zum Laufen bringen», sagte TI-Chef-Technologe Hans Stork der Zeitung. Das Unternehmen habe mit dem Immersionsverfahren bereits den Prototyp einer Speicherzelle unter der 45-Nanometer-Produktion hergestellt.
Auf nur der halben Fläche
Der Chip soll mit 0,24 Quadrat-Mikrometer (Millionstel Meter) nur die halbe Grösse eines Chips in der 65-Nanometer-Fertigung haben. Intel soll der Zeitung zufolge für den 45-Nanometer-Prozess Zellen angekündigt haben, die 0,346 Quadrat-Mikrometer gross sind. Intel und Texas Instruments bedienen im Halbleitermarkt allerdings unterschiedliche Märkte. Anders als Intel produziert TI hauptsächlich Chips, die in Handys und mobilen Geräten als Speicherbausteine integriert sind.
Alles für einen «feinen Strich»
Bei der Fertigung von Chips aller Art arbeiten die Forscher schon seit Jahrzehnten daran, immer mehr Leistung auf immer kleinerem Raum unterzubringen. Dabei spielt bei immer weiter schrumpfenden Massstäben die «Strichstärke» der auf den Chips aufgebrachten Lithographie eine immer wichtigere Rolle. Mit dem so genannten Immersionsverfahren leiten Forscher die Laserstrahlen auch durch verschiedene Flüssigkeiten hindurch, womit die Wellenlänge verkürzt werden und der «Strich» feiner ausfallen soll. Auch das Technologie-Unternehmen IBM forscht an entsprechenden Möglichkeiten, das Verfahren der optischen Lithographie zu verfeinern. So war es dem Unternehmen erst vor wenigen Monaten gelungen, Stichstärken von unter 30 Nanometer (ein milliardster Meter) herzustellen. (awp/mc/th)
